Elektronik

Detta är en högteknologisk industri med tillverkning främst i rena rum. Halvledarkemi baseras huvudsakligen kring kemiska behandlingar med lösningsmedel för avfettningskomponenter och att ta bort kvarvarande hartser med användning av kemikalier som isopropanol, trikloretylen, aceton och andra alkoholer eller syra / basreaktionskemi. Alkalier används för att oxidera halvledaren, syror används för att avlägsna oxider. Typiska kemikalier som används inkluderar väteperoxid, ammoniumhydroxid, natriumhydroxid, svavelsyra, salpetersyra, ortofosforsyra, saltsyra och fluorvätesyra.

Blandningar av salpetersyra och fluorvätesyra används ofta för att beta kiseldioxid, och fluorvätesyra används ofta på grund av dess förmåga att lösa upp oxider. Särskild försiktighet måste iakttas med fluorvätesyra på grund av frätande och toxiska risker.

Halvledarproduktionsområden använder vanligtvis dessa kemikalier i slutna linjer med liten risk för kemiska stänk men lagrings-, dekanterings- och underhållsprogram har alla risker liksom kvalitetstestprocesser innebär risk för skvätt och stänk.

Vanligt förekommande kemikalier:

Väteperoxid (H_₂O₂_{) –} frätande och oxiderande                       

Ammoniumhydroxid (NH₄OH) – lösningar starkare än 10% är frätande

Salpetersyra (HNO₃) – starkt oxiderande och frätande syra

Svavelsyra (H₂SO₄) – starkt frätande syra

Kaustiksoda, Natriumhydroxid, Lut (NaOH) – starkt frätande bas

Fosforsyra (H₃PO₄) – svagt frätande syra

Saltsyra (HCI) – starkt frätande i koncentrerad form

Fluorvätesyra (HF) – mycket starkt frätande syra och giftig

Lösningsmedel – till exempel lacknafta, bensin, etanol, etylacetat och terpentin är skadliga

Vi rekommenderar: